三十五、38CrMoAl钢表面搪瓷涂层的制备及性能

稀土改性搪瓷涂层的制备与耐磨性能评价(3)

稀土CeO₂对搪瓷涂层组织的影响

图4.1为添加稀土CeO₂前后不同制备工艺下搪瓷涂层的XRD 衍射结果。由图中可看出，添加稀土CeO₂前后制得的搪瓷涂层的X 射线图谱中均出现晶体衍射峰，表明添加CeO₂前后制得的搪瓷

涂层中均存在晶体，与标准的XRD 卡片比对后发现搪瓷涂层的晶相主要为SiO₂，而且含稀土 CeO₂搪瓷涂层的晶体衍射峰的强度明显强于未含稀土CeO₂的搪瓷涂层，表明稀土CeO₂的加入增

强了搪瓷涂层的析晶程度。

搪瓷涂层析出的氧化硅晶粒不仅数量少而且尺寸较为粗大，添加稀土的搪瓷涂层析出的氧化硅晶粒不仅数量多而且晶粒细小，可见稀土改性后的搪瓷涂层氧化硅晶粒明显细化。这是由于加

入的其自身有极强的表面活性，CeO₂本身为高熔点氧化物，极易成为非均匀形核的核心，即新相极易依附于CeO₂表面形成晶核，从而使搪瓷涂层内部晶相含量更高，晶粒得到细化。

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